日本Rapidus公司完成1臺EUV光刻機籌備
原本已經落后的日本半導體制造行業近年來加快了追趕速度,去年8月份索尼、豐田等8家企業出資成立了Rapidus,計劃2025年試產2nm工藝,而且很快就籌備了EUV光刻機。
日本當前的邏輯工藝還在28nm以上,但是Rapidus公司選擇跳過中間的工藝,直接搞2nm工藝,而5nm以下的工藝都離不開EUV光刻機,不論研發還是制造都要先買設備。
Rapidus社長小池淳義日前在采訪中透露,他們已經完成了1臺EUV光刻機的籌備,不過具體的型號及進度沒有說明,不確定是ASML的哪款EUV光刻機,何時安裝、測試也沒公布。
Rapidus公司成立了僅僅9個月多,不到一年時間就籌備完成EUV光刻機,進度確實很快。
小池淳義表示,通常大規模量產先進工藝需要至少1000名工程師,但他們引入了AI和自動化技術,現在有500名工程師了,用一半的資源就能完成。
根據該公司的計劃,他們2025年試產2nm工藝,2027年量產,2030年代預計營收將達到1萬億日元。